Pat
J-GLOBAL ID:200903082595255084
蛍光X線分析用試料、蛍光X線分析装置、及び蛍光X線分析方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三澤 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001159791
Publication number (International publication number):2002350372
Application date: May. 29, 2001
Publication date: Dec. 04, 2002
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、試料分析時塩素やアルミニウムなどの不純物を含まないと予想される試料に対して蛍光X線分析を行う際に、当該塩素やアルミニウムなどの不純物の検出がなされるのを防止し、スプリングバックによる試料面の高さの変化が小さく、正しい分析値を得ることが可能な蛍光X線分析用試料を提供する。【解決手段】 試料粉末14を、該試料粉末14を保持する試料保持部材13の中に充填し、試料粉末14並びに試料保持部材13をプレスして一体成形し、蛍光X線を曝射して蛍光X線分析を行う蛍光X線分析用試料12である。試料保持部材12を、水素、炭素からなる高分子にて形成する。これにより、塩素やアルミニウムなどの不純物の検出がなされずに済む。
Claim (excerpt):
試料粉末を、該試料粉末を保持する試料保持部材の中に充填し、前記試料粉末並びに前記試料保持部材をプレスして一体成形し、X線を照射して蛍光X線分析を行う蛍光X線分析用試料であって、前記試料保持部材を、水素、炭素からなる高分子にて形成することを特徴とする蛍光X線分析用試料。
IPC (2):
FI (2):
G01N 23/223
, G01N 1/28 R
F-Term (13):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001GA01
, 2G001KA01
, 2G001MA04
, 2G001QA02
, 2G001RA01
, 2G001SA10
, 2G052AB01
, 2G052AD35
, 2G052FD13
, 2G052GA19
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
特開昭47-041693
-
X線分析用試料ホルダおよびX線分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-030265
Applicant:理学電機工業株式会社
Cited by examiner (2)
-
特開昭47-041693
-
X線分析用試料ホルダおよびX線分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-030265
Applicant:理学電機工業株式会社
Return to Previous Page