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J-GLOBAL ID：200903082597033950

表面洗浄方法もしくは表面改質方法

Inventor： 平本 立躬 ,  五十嵐 龍志 ,  松野 博光 ,  松島 竹夫
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993095092
Publication number (International publication number)：1994287784
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 有機物の除去速度が大きく、精密洗浄に適した表面洗浄方法を提供する。【構成】 過酸化水素の蒸気もしくは過酸化水素水と紫外光とを組み合わせて被処理物の表面を洗浄する。更に、過酸化水素の蒸気にオゾンを混合しておくかもしくは過酸化水素水にオゾンを溶解しておいて、そのうえで紫外光と組み合わせて被処理物の表面を洗浄する。

Claim (excerpt)：

被処理物の表面を、過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水に接触させておいたうえで紫外線を照射しこれらを活性化して、該表面の不要有機物を除去することを特徴とする表面洗浄方法。

IPC (6)：

C23G 5/00 ,  B01J 19/12 ,  B05C 9/12 ,  B08B 3/08 ,  C01B 15/00 ,  C08J 7/00 304

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表平4-504594
  
• 光洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-120756   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開平4-059042