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J-GLOBAL ID：200903082608870042

ポリシランおよびパターン形成方法

Inventor： 中野 義彦 ,  可児 利佳子 ,  早瀬 修二 ,  佐藤 康彦 ,  三吉 靖郎 ,  後河内 透 ,  吉川 佐和子 ,  松山 日出人 ,  大西 廉伸 ,  平岡 俊郎 ,  成田 雅貴
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997336655
Publication number (International publication number)：1999060735
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 保存安定性に優れ、有機溶媒に可溶で塗布法により容易に薄膜にすることができ、機械的強度および耐熱性に優れた薄膜が得られるポリシランを提供するとともに、このポリシランを含み、露光時に反射防止機能を示し、レジストに対するエッチング速度比が大きく、しかもドライエッチング耐性にも優れたエッチングマスクを提供する。【解決手段】 一般式[LPS-I]で表される繰り返し単位(ただし、Aは2価の有機基、R1 は水素原子または置換もしくは非置換の炭化水素基であり、同一でも異なっていてもよい。)を有するポリシラン。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式[LSP-I]で表される繰り返し単位【化1】(ここで、Aは2価の有機基、R1 は水素原子ならびに置換または非置換の炭化水素基およびシリル基から選択され、同一でも異なっていてもよい。)を有することを特徴とするポリシラン。

IPC (2)：

C08G 77/60 ,  G03F 7/075 511

FI (2)：

C08G 77/60 ,  G03F 7/075 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 有機ケイ素共重合体及びその製造法並びに炭化ケイ素の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-349970   Applicant：東燃株式会社
• 有機ケイ素共重合体及びその製造法並びに炭化ケイ素の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-335547   Applicant：東燃株式会社
• 特開昭63-141046
  
• 新規な分岐ポリシランおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-230259   Applicant：東亞合成株式会社
• 感光体用ポリシラン化合物および感光体ならびに画像形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-072908   Applicant：京セラ株式会社