低コスト、高平均出力、高輝度ソリツドステートレーザ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996516895
Publication number (International publication number)：1998509280
Application date： Nov. 06, 1995
Publication date： Sep. 08, 1998
Summary：

【要約】高平均出力、高輝度ソリツドステートレーザ装置。我々はまず短いパルス存続時間を有するシードレーザビームを発生する。レーザ増幅器(24)は1011W/cm2を超える輝度レベルを発生するために緊密に焦点合わせされる増幅されたパルスレーザビームを発生するためにシードビームを増幅する。好適な実施例は1kWの範囲の平均出力を有する増幅されたパルスレーザビーム、より大きなスポツトの大きさを急速にシミユレートするように操縦され得る20μmにおいて1014ワツト/cm2を超える輝度レベルを有するパルスで12,000パルス/秒の平均パルス周波数を発生する。代替的に、(並列に配置された増幅器からの)幾つか(例えば、7個の)ビームが各々20μmに焦点合わせされかつ100〜200μmの有効スポツト大きさを作るように集団にされ得る。これらのビームはリソグラフイ用のX線源を作るのに有用である。

Claim (excerpt)：

高平均出力、高輝度ソリツドステートパルスレーザ装置において、 a)1000パルス/秒を超えるパルス周波数で各パルスが1ns以下の存続時間を有する第1パルスレーザビームを発生するためのシードレーザ副装置手段と、 b)前記第1パルスレーザビームを増幅して高い周波数のパルスを有する増幅されたパルスレーザビームを発生するためにするためのレーザ増幅手段で、前記増幅されたパルスレーザビームが10ワツトを超える平均出力を有するレーザ増幅手段と、 c)前記増幅されたパルスレーザビームをターゲツト上の小さいスポツトの大きさに焦点合わせするための焦点合わせ手段で、前記スポツトの大きさが1011W/cm2を超える輝度レベルを発生するのに十分小さいことを特徴とする焦点合わせ手段と、からなることを特徴とする高平均出力、高輝度ソリツドステートパルスレーザ装置。

IPC (4)：

H01S 3/10 , G21K 5/02 , H01L 21/027 , H01S 3/098

FI (4)：

H01S 3/10 Z , G21K 5/02 X , H01S 3/098 , H01L 21/30 531 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

注入同期型Qスイツチレーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-251553 Applicant：ホーヤ株式会社

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