Pat
J-GLOBAL ID:200903082634616871

ポリオール生成の方法およびシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 柏原 三枝子 ,  高橋 剛一 ,  柴田 雅仁 ,  米村 道子
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2009509787
Publication number (International publication number):2009536648
Application date: May. 07, 2007
Publication date: Oct. 15, 2009
Summary:
プロピレングリコール、エチレングリコールおよび他のポリオール、ジオール、ケトン、アルデヒド、カルボン酸およびバイオマスからのアルコールを生成する方法を開示する。この方法は、水相改質条件下、触媒上でバイオマス原料溶液の水流の一部を反応させ、水素を得て、触媒上で水素および原料水溶液を反応させプロピレングリコール、エチレングリコールおよび他のポリオール、ジオール、ケトン、アルデヒド、カルボン酸およびアルコールを得る。開示された方法は、より低い温度および圧力で実施可能であり、外部供給源からの水素を必要とせずに、含酸素炭化水素の生産を可能にする。【選択図】図9
Claim (excerpt):
水と、2又はそれ以上の炭素原子を有する少なくとも1の水溶性含酸素炭化水素と、を具える原料水溶液から含酸素化合物を生成する方法において、この方法が、 a) i. 約80〜400°Cの温度、 ii. 毎時重量空間速度が、時間当たり第1の触媒材料のグラム当たり少なくとも約1.0グラムの含酸素炭化水素、および、 iii. 前記水および前記含酸素炭化水素が凝縮液となるような圧力で、 原料水溶液の第1の部分の含酸素炭化水素を、少なくとも1つのVIII族金属を具える第1の触媒材料と接触させることによって水相改質(APR)水素を生成するステップと、 b) i. 約100〜300°Cの温度、 ii. 約200〜1200psigの圧力で、 前記APR水素を原料溶液の第2の部分の含酸素炭化水素と反応させ、第2の触媒材料上で含酸素炭化水素を還元するステップであって、前記第2の触媒材料は第1の触媒材料とは異なり、鉄、ルテニウム、銅、レニウム、コバルト、ニッケル、これらの合金、および、これらの混合物からなる群から選択され、 ポリオール、ケトン、アルデヒド、カルボン酸およびアルコールからなる群から選択される少なくとも1つの還元された含酸素炭化水素化合物を具える反応生成物を生成するステップと、 を具えることを特徴とする方法。
IPC (6):
C07C 29/00 ,  B01J 23/89 ,  C07C 31/125 ,  C07C 31/10 ,  C07C 31/08 ,  C07C 31/20
FI (7):
C07C29/00 ,  B01J23/89 Z ,  C07C31/125 ,  C07C31/10 ,  C07C31/08 ,  C07C31/20 A ,  C07C31/20 Z
F-Term (58):
4G169AA03 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC31A ,  4G169BC64A ,  4G169BC65A ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC69A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CB02 ,  4G169CB63 ,  4G169CB70 ,  4G169CB72 ,  4G169CB74 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006AC41 ,  4H006BA05 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA55 ,  4H006BA60 ,  4H006BA61 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC18 ,  4H006BC31 ,  4H006BC32 ,  4H006BC34 ,  4H006BD70 ,  4H006BE20 ,  4H006FE11 ,  4H006FG24 ,  4H006FG26 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20 ,  4H039CC20 ,  4H039CG10 ,  4H039CG40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 米国特許第6,841,085号
  • 米国特許第6,677,385号
  • 米国特許第6,479,713号
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page