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J-GLOBAL ID:200903082802014513

被対象物質除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡部 温
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996110619
Publication number (International publication number):1997271731
Application date: Apr. 08, 1996
Publication date: Oct. 21, 1997
Summary:
【要約】【課題】 被対象物質が光触媒作用により変化して付着した反応生成物を効果的に除去しうる被対象物質除去方法を提供する。【解決手段】 本発明の被対象物質除去方法は、光触媒作用を発揮する物質を含む表面層を有する部材の表面に、該光触媒の励起波長よりも短い波長の光の照射下において、被対象物質を接近させ、該被対象物質を光触媒作用により化学変化させて生成物としてこれを該表面上に捕捉し、該生成物を水で洗浄して除去する被対象物質除去方法である。上記部材表面を、水との接触角5°未満の親水性とすることを特徴とする。
Claim (excerpt):
光触媒作用を発揮する物質を含む表面層を有する部材の表面に、該光触媒の励起波長よりも短い波長の光の照射下において、被対象物質を接近させ、該被対象物質を光触媒作用により化学変化させて生成物としてこれを該表面上に捕捉し、該生成物を水で洗浄して除去する被対象物質除去方法であって;上記部材表面を、水との接触角5°未満の親水性とすることを特徴とする被対象物質除去方法。
IPC (6):
B08B 7/04 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/62 ,  B01J 35/02
FI (6):
B08B 7/04 Z ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/62 M ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 H ,  B01D 53/36 ZAB J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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