投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993296425
Publication number (International publication number)：1995147224
Application date： Nov. 26, 1993
Publication date： Jun. 06, 1995
Summary：

【要約】【目的】特にスキャン露光方式の投影露光装置において、マスクの熱変形によって発生する結像特性の変動量を良好に補正する。【構成】光源1からの照明光でマスクR上のスリット状の照明領域を照明し、その照明領域内のパターン像を投影光学系PLを介してウエハW上に投影露光し、マスクRを-x方向に走査するのと同期してウエハWをx方向に走査する。干渉計16の計測値から近似的にマスクRと雰囲気気体との相対速度を計測し、この相対速度及びマスクRに対する照射エネルギー等からマスクRの熱変形量を計測し、この熱変形量に起因する結像特性の変化量を結像特性制御部12を介して相殺する。

Claim (excerpt)：

転写用のパターンが形成されたマスク上の所定の照明領域を照明する照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記マスクを保持して前記照明領域に対して前記マスクを走査するマスクステージと、前記感光基板を保持して前記所定の照明領域と共役な領域に対して前記感光基板を走査する基板ステージと、を有し、前記マスクステージを介して前記マスクを所定速度で走査するのと同期して前記基板ステージを介して前記投影光学系の投影倍率に応じた速度で前記感光基板を走査することにより、前記マスクのパターン像を逐次前記感光基板上に投影露光する投影露光装置において、前記投影光学系の結像状態を補正する結像状態補正手段と、前記マスクと該マスクに接する気体との相対速度を測定する相対速度測定手段と、該相対速度測定手段の測定結果及び前記マスクに対する前記照明光学系からの照射エネルギーより、前記マスクの熱変形量を算出する変形量算出手段と、該熱変形量算出手段の算出結果に基づいて前記結像状態補正手段を介して前記投影光学系の結像状態を補正する制御手段と、を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 516 E , H01L 21/30 516 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

投影露光方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-094067 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-192317
特開平4-171453

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