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J-GLOBAL ID：200903083250856588

情報記録媒体の製造方法

Inventor： 川西 義隆 ,  横田 均
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995162537
Publication number (International publication number)：1997017043
Application date： Jun. 28, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】マスク端部および試料のマスク直下に現れる物理的スパッタ特有のファセットまたは荒れを防止し、且つ、入射イオンの断面側壁入射のため、側壁には低部付近に湾曲すなわちオーバーハングを防止することで、高密度で且つ信号特性の良好な情報記録媒体のスタンパおよび情報記録媒体の製造方法を提供する。【構成】円盤よりなる基板1の表面に、下層2,中間層3,上層4の順で積層し、書き込み情報に対応するレーザ光を照射してレーザ光照射領域の上層4を露光し、露光された上層4を現像し、レーザ光照射領域の上層4を除去して中間層3を露出し、第1回目のエッチング?@をなして上層4の除去された領域の中間層3を除去することでピットパターンを転写し、中間層3をエッチングマスクとし第2回目のエッチング?Aをなして中間層3の除去された領域の下層2に凹部を形成し、中間層3をメタルマスタの一部として取り込みメタルマスタを作成する。

Claim (excerpt)：

円盤よりなる基板1の表面に、非感光性の下層2,中間層3の順で積層し、次いで感光性の上層4を積層し、書き込み情報に対応するレーザ光を照射して、そのレーザ光照射領域の上層4を露光し、その露光された上層4を現像し、前記レーザ光照射領域の上層4を除去して中間層3を露出し、第1回目のエッチング?@をなして、前記上層4の除去された領域の中間層3を除去することで上層のパターンを転写し、前記中間層3をエッチングマスクとし第2回目のエッチング?Aをなして、前記中間層3の除去された領域の下層2に凹部を形成し、前記中間層3をメタルマスタの一部とすることを特徴とする情報記録媒体のスタンパの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-117591   Applicant：セイコーエプソン株式会社