Pat
J-GLOBAL ID：200903083299054819

転写シートおよびパターン形成方法

Inventor：
武田 利彦

About 武田 利彦

, 
水野 克彦

About 水野 克彦

, 
小坂 陽三

About 小坂 陽三


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 米田 潤三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999138381
Publication number (International publication number)：2000332384
Application date： May. 19, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 高精細な電極パターンの形成が可能な転写シートと、電極パターンを高い精度で簡便に形成するためのパターン形成方法を提供する。【解決手段】 ベースフィルム2の一方の面に、導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有する転写層3を剥離可能に設け、転写層およびベースフィルムの少なくとも一方に、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも1種を含有させて転写シートとし、この転写シートの転写層側を基板上に圧着し、ベースフィルム側から所望のパターンで転写層を露光し、その後、ベースフィルムを剥離して現像し、焼成して有機成分を除去することにより電極パターンを形成する。
Claim (excerpt)：
ベースフィルムと、該ベースフィルムの一方の面に剥離可能に設けられた転写層とを備え、該転写層は導電性粉体とガラスフリットを含む無機成分と焼成除去可能な感光性樹脂組成物を含む有機成分とを少なくとも含有し、前記転写層および前記ベースフィルムの少なくとも一方が、紫外線吸収剤および着色剤の少なくとも1種を含有することを特徴とする転写シート。
IPC (3)：
H05K 3/20 ,  H01J 9/227 ,  H01J 11/02
FI (3)：
H05K 3/20 A ,  H01J 9/227 E ,  H01J 11/02 B
F-Term (21)：
5C028FF16 ,  5C028HH14 ,  5C040FA01 ,  5C040GA03 ,  5C040GB02 ,  5C040GG09 ,  5C040JA19 ,  5C040KA09 ,  5C040KA16 ,  5C040MA22 ,  5C040MA23 ,  5C040MA24 ,  5C040MA26 ,  5E343AA26 ,  5E343BB25 ,  5E343BB72 ,  5E343BB73 ,  5E343EE42 ,  5E343EE52 ,  5E343ER32 ,  5E343GG08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM