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J-GLOBAL ID:200903083505058940
表示装置及びその駆動方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 晴敏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995306595
Publication number (International publication number):1997127556
Application date: Oct. 31, 1995
Publication date: May. 16, 1997
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 補助容量の電極構造を改善して表示装置の製造工程を合理化する。【解決手段】 表示装置は互いに接合した駆動基板1及び対向基板とこの間隙に保持された電気光学物質とを備えたパネル構造を有する。駆動基板1は互いに同一層に属し且つ独立的にパタニング形成されたゲート配線2及び補助配線3と、両配線を被覆するゲート絶縁膜4と、このを介してゲート配線2の一部をまたぐ様にパタニング形成されゲート配線2と重なる部分で薄膜トランジスタTRの活性領域6を構成する半導体薄膜5と、活性領域6の一方側で半導体薄膜5に電気接続する信号配線9と、活性領域6の他方側で半導体薄膜5に電気接続する画素電極12とを備えている。
Claim (excerpt):
所定の間隙を介して互いに接合した駆動基板及び対向基板と該間隙に保持された電気光学物質とを備えたパネル構造を有し、該駆動基板は互いに同一層に属し且つ独立的にパタニング形成されたゲート配線及び補助配線と、両配線を被覆するゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜を介して該ゲート配線の一部をまたぐ様にパタニング形成され該ゲート配線と重なる部分で薄膜トランジスタの活性領域を構成する半導体薄膜と、該活性領域の一方側で該半導体薄膜に電気接続する信号配線と、該活性領域の他方側で該半導体薄膜に電気接続する画素電極とを備えた表示装置であって、前記半導体薄膜は該ゲート絶縁膜を介して該補助配線の一部と重なる延設領域を含み、補助配線とゲート絶縁膜と半導体薄膜との三層構造からなる補助容量を構成し、前記延設領域は該ゲート絶縁膜を介して補助容量の一方の電極となる補助配線の電位の作用を受けて導電性を生じ補助容量の他方の電極として機能する事を特徴とする表示装置。
IPC (3):
G02F 1/136 500
, G09F 9/30 338
, G09G 3/36
FI (3):
G02F 1/136 500
, G09F 9/30 338 K
, G09G 3/36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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アクティブマトリクスパネルおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-018839
Applicant:カシオ計算機株式会社
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特開平1-129234
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アクティブマトリクス基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-347349
Applicant:ソニー株式会社
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