粒度分布測定装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西岡義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998020665
Publication number (International publication number)：1999218482
Application date： Feb. 02, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】粒度分布測定において、測定セルの装着方向を規制し、測定条件を統一する。【解決手段】測定セル13内の粒子群に平行光束を照射することによって得られる、粒子群による回折/散乱光の強度分布を測定することにより、粒子群の粒度分布を測定する装置であり、装置本体に固定されたホルダ31に設けた突起部32が測定セル13に設けた切り欠き28に嵌まることで、測定セル13がホルダ31に正確に装着されたことが確認でき、測定条件を統一することができる。

Claim (excerpt)：

測定セル内の粒子群に平行光束を照射することによって得られる、粒子群による回折/散乱光の強度分布を測定することにより、粒子群の粒度分布を測定する装置において、前記測定セルを着脱可能に光学的に位置決めするホルダと、前記ホルダに対し前記測定セルを装着する際、所定方向以外の装着を規制する規制手段とを備えたことを特徴とする粒度分布測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

粒度分布測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-324257 Applicant：株式会社島津製作所
レーザ回折式粒度分布測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-299292 Applicant：株式会社堀場製作所
流体中でサスペンドされた粒子の沈降および光学的検査のための方法と装置および該方法を達成するためのキュベット
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-518693 Applicant：ロッシュディアグノスティクスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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