Pat
J-GLOBAL ID:200903083648344129

錯化構造、デバイス及び廃液処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002523014
Publication number (International publication number):2004507348
Application date: Aug. 29, 2001
Publication date: Mar. 11, 2004
Summary:
本発明は、複合構造、当該複合構造を使用した廃液処理方法、並びに、当該方法を実施するためのデバイスに関する。前記構造は、ポリマー又は電気的に中性のコポリマーのフィルムを含む。更に、本発明は、前記構造を使用した廃液処理システム及び方法にも関する。
Claim (excerpt):
イオンを錯化可能な、ポリマー、又は、電気的に中性の有機コポリマーのフィルムがその上にグラフト化された基体を含む錯化構造。
IPC (3):
B01J45/00 ,  C02F1/42 ,  C08F292/00
FI (3):
B01J45/00 H ,  C02F1/42 H ,  C08F292/00
F-Term (14):
4D025AA09 ,  4D025AB21 ,  4D025AB22 ,  4D025AB23 ,  4D025AB39 ,  4D025BA17 ,  4D025BA21 ,  4D025BA22 ,  4D025BA27 ,  4D025BA28 ,  4D025BB01 ,  4J026AC00 ,  4J026BA27 ,  4J026BA40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page