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J-GLOBAL ID:200903083648344129
錯化構造、デバイス及び廃液処理方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (8):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002523014
Publication number (International publication number):2004507348
Application date: Aug. 29, 2001
Publication date: Mar. 11, 2004
Summary:
本発明は、複合構造、当該複合構造を使用した廃液処理方法、並びに、当該方法を実施するためのデバイスに関する。前記構造は、ポリマー又は電気的に中性のコポリマーのフィルムを含む。更に、本発明は、前記構造を使用した廃液処理システム及び方法にも関する。
Claim (excerpt):
イオンを錯化可能な、ポリマー、又は、電気的に中性の有機コポリマーのフィルムがその上にグラフト化された基体を含む錯化構造。
IPC (3):
B01J45/00
, C02F1/42
, C08F292/00
FI (3):
B01J45/00 H
, C02F1/42 H
, C08F292/00
F-Term (14):
4D025AA09
, 4D025AB21
, 4D025AB22
, 4D025AB23
, 4D025AB39
, 4D025BA17
, 4D025BA21
, 4D025BA22
, 4D025BA27
, 4D025BA28
, 4D025BB01
, 4J026AC00
, 4J026BA27
, 4J026BA40
Patent cited by the Patent:
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