ガス状不純物処理システム及び粒子除去フィルタ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金本哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996305991
Publication number (International publication number)：1997187612
Application date： Oct. 30, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】それ自体が汚染源にならないガス状不純物処理システムを提供する。【解決手段】本発明にかかるガス状不純物処理システムは、未処理空気中に含まれるガス状不純物は除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物を発生するガス状不純物除去手段(110)とそのガス状不純物除去手段の下流側に配され、ガス状不純物を発生しない素材(例えば、金属やガラス繊維)のみから構成されるフィルタ手段120とを備えているので、ガス状不純物除去手段により発生した粒子状不純物も除去することが可能となり、システム自体が汚染源となることがない。

Claim (excerpt)：

気相中に含まれるガス状不純物を除去して清浄空気を生成するガス状不純物処理システムにおいて、未処理空気中に含まれるガス状不純物は除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物を発生するガス状不純物除去手段と、前記ガス状不純物除去手段の下流側に配され、ガス状不純物を発生しない素材のみから構成される粒子状不純物を除去するフィルタ手段とを備えたことを特徴とする、ガス状不純物処理システム。

IPC (5)：

B01D 46/12 , B01D 39/20 , B01D 46/24 , B01D 46/42 , B01D 46/52

FI (8)：

B01D 46/12 , B01D 39/20 D , B01D 39/20 A , B01D 39/20 B , B01D 46/24 Z , B01D 46/42 C , B01D 46/52 Z , B01D 46/52 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

エアーフィルタ及びエアーフィルタ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-283616 Applicant：ニッタ株式会社
半導体製造用エアフイルタ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-086046 Applicant：東京エレクトロン株式会社
特開平3-183780

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