洗浄システムから排出される排水の処理方法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：長谷照一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994000749
Publication number (International publication number)：1995195091
Application date： Jan. 10, 1994
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】フロン化合物による洗浄に代わる水系洗浄剤による洗浄システムからの排水の好適な処理方法を提供する。【構成】各種機械、機器、これらの構成部材等各種部品を水系洗浄剤にて洗浄する洗浄工程、同洗浄工程にて洗浄処理された各種部品を水で仕上げ洗浄する仕上洗浄工程の両工程を有する洗浄システムから排出される排水の処理方法であり、前記仕上洗浄工程からの排水を分解処理した後、活性炭処理およびイオン交換処理することを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

各種機械、機器、これらの構成部材等各種部品を水系洗浄剤にて洗浄する洗浄工程、および同洗浄処理工程にて洗浄処理された各種部品を水で仕上げ洗浄する仕上洗浄工程の両工程を有する洗浄システムから排出される排水の処理方法であり、前記洗浄工程から排出され油性エマルジョンの分離処理された排水処理水を、酸化分解処理した後、活性炭処理およびイオン交換処理することを特徴とする洗浄システムから排出される排水の処理方法。

IPC (10)：

C02F 1/78 ZAB , B08B 3/14 , C02F 1/28 ZAB , C02F 1/42 ZAB , C02F 1/72 ZAB , C02F 1/72 101 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭49-097451
特開平3-196890
プリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-015943 Applicant：オルガノ株式会社

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