半導体露光用エキシマレーザ装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：韮澤弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999138383
Publication number (International publication number)：2000332322
Application date： May. 19, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】発振波長を狭帯域化するために回折格子を用いた半導体露光用エキシマレーザ装置において、出力鏡の形状を工夫することにより発振波長をより狭帯域化する。【解決手段】出力鏡17とリトロー配置の反射型回折格子16とでなる光共振器と、その光共振器中に配置されエキシマガスが封入されたレーザチャンバー11と、その反射型回折格子16とレーザチャンバー11の間に配置されたスリット14とビーム拡大器15とからなり、半導体露光用に用いられるエキシマレーザ装置において、出力鏡17が凹面シリンドリカル鏡よりなる半導体露光用エキシマレーザ装置。

Claim (excerpt)：

出力鏡とリトロー配置の反射型回折格子とでなる光共振器と、該光共振器中に配置されエキシマガスが封入されたレーザチャンバーと、該反射型回折格子と該レーザチャンバーの間に配置されたスリットとビーム拡大器とからなり、半導体露光用に用いられるエキシマレーザ装置において、前記出力鏡が凹面シリンドリカル鏡よりなることを特徴とする半導体露光用エキシマレーザ装置。

IPC (4)：

H01S 3/08 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5)：

H01S 3/08 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 527

F-Term (18)：

2H097AA03 , 2H097CA08 , 2H097CA13 , 2H097CA17 , 2H097LA10 , 5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CB03 , 5F046CB10 , 5F046CB22 , 5F072AA06 , 5F072JJ13 , 5F072KK06 , 5F072KK07 , 5F072KK30 , 5F072MM08 , 5F072RR05 , 5F072YY09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-260612 Applicant：キヤノン株式会社
特開平2-303178

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