フォトマスク

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995222381
Publication number (International publication number)：1997068790
Application date： Aug. 30, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】一般的な露光装置では照明条件の変更が不可能である。【解決手段】フォトマスク10は透明基板1とこの基板の上面に形成された遮光膜2と下面に形成された多層コーティング膜3とから構成され、照明光の入射角度に対して透過率の変化を生じさせている。入射角度がより大きくなるほど低い透過率となり、孤立コンタクトホールパターンを垂直入射光を強調して照明する。

Claim (excerpt)：

透明基板上に所定のパターンを有し、透過照明により照明され前記所定のパターンを結像面上に形成するフォトマスクにおいて、前記透明基板の表面或いは裏面に入射角度により光の透過率が異なる層を有していることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 573

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-031428 Applicant：大日本印刷株式会社
ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173199 Applicant：大日本印刷株式会社
位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-232115 Applicant：ホーヤ株式会社

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