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J-GLOBAL ID：200903083926156673
レーザマーキング用マスク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993070798
Publication number (International publication number)：1994254692
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】 耐熱性があり、付着した汚れを容易に拭き取ることができ、なおかつ、被マーキング物に正確なマークをマーキングすることのできるレーザマーキング用マスクを提供することにある。【構成】 マスクMに照射されたレーザ光は、基板1の一方の面に形成された誘電体多層膜2によって遮光される。一方、そのマスクMにおいて、誘電体多層膜2が形成されていない部分、即ち、パターンaの部分は照射されたレーザ光を透過する。そして、その透過したレーザ光によって、被マーキング物にそのパターンaに対応したマークをマーキングする。さらに、レーザ光の入射面、出射面に反射防止膜3がコートされているので、効率良く、レーザ光を利用できる。
Claim (excerpt)：
レーザ光を透過する基板と、該基板の一方の面に被マーキング物にマークされるパターン以外の部分に形成された前記レーザ光を透過しない誘電体多層膜と、前記基板のパターン部分及び該誘電体多層膜が形成されていない前記基板の他方の表面に前記レーザ光の反射を防止するために形成された反射防止膜とよりなるレーザマーキング用マスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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