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J-GLOBAL ID：200903083996602700

排ガス測定装置

Inventor：
飛田 朋之

About 飛田 朋之

, 
立花 幸治

About 立花 幸治


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000387309
Publication number (International publication number)：2002189020
Application date： Dec. 20, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】排ガス中のダイオキシン等の濃度を連続的に求める場合にその濃度の確度を向上し、且つ測定工数を低減し、更には装置自身の自己診断を行える排ガス測定装置を得る。【解決手段】排ガスの連続計測時に、排ガス中の測定物の濃度と装置の出力との較正手段として、測定物とそのイオン化効率の類似する物質、即ち希少同位体で且つ既知の一定濃度の物質を第一の標準物質として排ガス引き込みラインに添加して、その量を測定し且つその係数を監視し、又装置の較正時或いは第一の標準物質の変動時には前記排ガス中の測定物と同一の物質で且つ既知の一定濃度の第二の標準物質を排ガス引き込みラインに添加して、その量と係数を逐次較正する。更には、第一の標準物質と第二の標準物質の時間的変動や前記イオン化効率や質量分析部の効率を連続して監視し、装置自身の劣化診断を行う。
Claim (excerpt)：
排ガスを直接採取してその中に含まれる特定物質(測定物)を分析・計測するのに前記排ガスを導入する手段(前処理部)と、前記測定物質をイオン化するイオン源と、前記イオン源にて生成された測定物質のイオンを質量分析する質量分析部と、前記質量分析の結果を処理するデータ処理部とを具備して、前記測定物質の濃度を定量する排ガス測定装置において、前記前処理部に位置する排ガス採集管部を2系統に分流し、その一方の系統の下流には封止手段を具備し、その下流側で前記他方の系統と合流し、他方の系統の下流には前記排ガス中の測定物質を除去するフィルター或いは除去材を具備し、その下流側には前記排ガス中の測定物質と同じ物質を第二の標準物質として添加する添加手段を具備し、当該添加手段の下流側には封止手段を具備し、その下流側で前記一方の系統と合流し、前記合流位置の下流側に前記排ガス中の測定物質とそのイオン化効率、蒸気圧等の物性値が同じ希少な同位体の物質を第一の標準物質として添加する添加手段を具備し、前記第一の標準物質と前記第二の標準物質から一定の既定濃度を発生する手段を具備したことを特徴とする排ガス測定装置。
IPC (6)：
G01N 27/62 ZAB ,  G01N 27/62 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 1/22 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/42
FI (8)：
G01N 27/62 ZAB V ,  G01N 27/62 D ,  G01N 27/62 G ,  G01N 27/62 L ,  G01N 1/00 101 S ,  G01N 1/22 L ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/42
F-Term (11)：
2G052AA02 ,  2G052CA03 ,  2G052CA04 ,  2G052ED06 ,  2G052GA24 ,  5C038EE01 ,  5C038EF01 ,  5C038EF12 ,  5C038EF29 ,  5C038JJ02 ,  5C038JJ11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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