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J-GLOBAL ID：200903084027859423
成膜法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
坂本 栄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996040115
Publication number (International publication number)：1997225382
Application date： Feb. 27, 1996
Publication date： Sep. 02, 1997
Summary：
【要約】【課題】 スピンコート法でゾルゲル液を用い、大面積の基板上に10μm程度以下、特に1μm程度以下の均一な光学薄膜を連続的に成膜する成膜法を得る。【解決手段】 基板上にスピンコ-ト法によって薄膜を形成する成膜法において、被膜形成用塗布液として、該被膜形成用塗布液中に酸化物換算で固形分濃度が0.5 〜10重量%でかつレベリング剤の添加量が0.01〜5重量%であって、該被膜形成用塗布液の粘度が0.5 〜10cPになるように調製した溶液を用い、スピンコ-ト成膜した後、乾燥し焼成する成膜法。
Claim (excerpt)：
基板上にスピンコ-ト法によって薄膜を形成する成膜法において、被膜形成用塗布液として、該被膜形成用塗布液中に酸化物換算で固形分濃度が0.5 〜10重量%でかつレベリング剤の添加量が0.01〜5重量%であって、該被膜形成用塗布液の粘度が0.5 〜10cPになるように調製した溶液を用い、スピンコ-ト成膜した後、乾燥し焼成することを特徴とする成膜法。
IPC (6)：
B05D 1/40
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24 303
, B60J 1/00
, C03C 17/25
, C23C 18/02
B05D 1/40 A
, B05D 7/24 301 J
, B05D 7/24 303 E
, B60J 1/00
, C03C 17/25 Z
, C23C 18/02
