Pat
J-GLOBAL ID:200903084084614224

非線形光学薄膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993353922
Publication number (International publication number):1995199247
Application date: Dec. 27, 1993
Publication date: Aug. 04, 1995
Summary:
【要約】【構成】 一般式ABO3 (ただしAはBa、Sr、Pb、LiおよびLaのうちの少なくとも1種であり、BはTi、Zr、W、NbおよびTaのうちの少なくとも1種である)で表わされる化合物の結晶マトリックス中に、Au、AgおよびCuの少なくとも1種の金属微粒子を含む非線形光学薄膜を、AとBとを含む溶液から、ゾル-ゲル法により生成する。【効果】 これまでに比べて低い結晶化処理温度で、高いχ(3) 値を示す非線形光学薄膜が実現する。
Claim (excerpt):
一般式ABO3 (ただしAはBa、Sr、Pb、LiおよびLaのうちの少なくとも1種であり、BはTi、Zr、W、NbおよびTaのうちの少なくとも1種である)で表わされる化合物の結晶マトリックス中に、Au、AgおよびCuの少なくとも1種の金属微粒子を含む非線形光学薄膜を製造する方法であって、前記Aと前記Bとを含む溶液から、ゾル-ゲル法により前記結晶マトリックスを生成する非線形光学薄膜の製造方法。
IPC (6):
G02F 1/35 505 ,  C01G 23/00 ,  C01G 25/00 ,  C01G 33/00 ,  C01G 35/00 ,  C01G 41/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page