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J-GLOBAL ID：200903084091894003

加圧式オゾン処理装置

Inventor： ▲陰▼山 晃治 ,  久保田 昌良 ,  森 利克 ,  小松 直人 ,  渡辺 昭二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997024730
Publication number (International publication number)：1998216751
Application date： Feb. 07, 1997
Publication date： Aug. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】オゾンを使用する浄水処理で、水中の除去対象物質を高効率に安定して除去する。【解決手段】加圧ポンプと膜とを使用することにより反応装置内でのオゾンガス溶解効率と除去対象物質の反応効率を向上させる加圧式オゾン処理装置で、反応装置の残留圧力を調圧弁で調整して膜処理装置を駆動し、膜処理装置の濃縮液をオゾン溶解装置の前段に再循環する。

Claim (excerpt)：

オゾンガスを微細化して被処理水中に注入するオゾン注入装置と、上記オゾン注入装置の後段に位置して被処理水及びオゾンガスを同時に加圧する加圧ポンプと、上記加圧ポンプ後段に位置して被処理水中の被酸化物を酸化する反応装置とを備えた高度浄水処理プラントにおいて、上記反応装置の残留圧力によって駆動されて除去対象物質を濃縮する膜処理装置と、上記膜処理装置の濃縮液を上記オゾン注入装置より前段に循環する濃縮液循環系を備えたことを特徴とする加圧式オゾン処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/44

FI (2)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/44 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 水浄化方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-096413   Applicant：イー.エム.エンジニアリングエフ.テー.エス.ベー.フアー.
• 特開平3-157193
  
• 分離注入式オゾン接触方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-230590   Applicant：富士電機株式会社