回転炉床炉

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：守田賢一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998164220
Publication number (International publication number)：1999337264
Application date： May. 27, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】設備コストの増大やペレット搬送の困難性を解消する。【解決手段】回転移動する炉床2が設けられ、装入口51から装入された生ペレットPは炉床2上に供給載置されて、予熱帯42に送られる。予熱帯42では炉床2の残熱による低温の下で生ペレットP内部の水分やガス化成分が緩やかに蒸発気化して、爆裂等を生じることなく乾燥させられる。乾燥されたペレットPは加熱帯43で高温に加熱され、中間帯44を経て還元帯45へ送られて還元処理がなされる。還元処理されたペレットPはスクリューコンベア53により排出口52から炉外へ排出される。

Claim (excerpt)：

回転移動する炉床を有し、装入口から装入供給された被処理材を前記炉床上に載置して熱処理帯へ移動させて熱処理を施すとともに、熱処理後の被処理材を排出口へ移動させて排出するようにした回転炉床炉において、装入直後の未乾燥の前記被処理材を前記炉床の残熱により予熱する予熱帯を、前記熱処理帯の前に設けたことを特徴とする回転炉床炉。

IPC (4)：

F27B 9/16 , C21B 13/10 , C22B 1/20 , F27B 9/02

FI (4)：

F27B 9/16 , C21B 13/10 , C22B 1/20 , F27B 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

直接還元プロセス及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-118433 Applicant：ジアメタラジカルプロセシイズ,インコーポレイテツド
特開平2-228411
特開昭52-061108

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