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J-GLOBAL ID：200903084264278362

ポリゴン処理方法及びポリゴン処理プログラムを記録した記録媒体

Inventor：
谷村 武春

About 谷村 武春

, 
名越 稔洋

About 名越 稔洋


Applicant, Patent owner：
株式会社セガ・エンタープライゼス

About 株式会社セガ・エンタープライゼス


Agent (1)： 林 恒徳 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998223283
Publication number (International publication number)：2000057368
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：
【要約】【課題】オリジナルモデルの形状の特徴を維持すると同時に、オリジナルモデルのポリゴン数の削減を行う。【解決手段】プログラムされたコンピュータによってオリジナルモデルのポリゴン数を削減するポリゴン処理方法において、オリジナルモデルのポリゴンの頂点を、所定の間隔で並んだ格子点上に一致させる工程と、1つのエッジを共有して隣接する2つのポリゴンの法線の成す角度が、所定の値より大きい場合に該エッジを抽出する工程と、抽出されたエッジのうち1端を共有する2つのエッジをペアにしてペアエッジを構成する工程と、ペアエッジのうち一方のエッジを共有する複数のペアエッジを組み合わせてポリゴンを再構築する工程と、再構築したポリゴンの存在の可否及び該ポリゴンの法線の向きを、オリジナルモデルのポリゴンデータを参照して決定する工程とを含む。
Claim (excerpt)：
プログラムされたコンピュータによってオリジナルモデルのポリゴン数を削減するポリゴン処理方法において、該オリジナルモデルのポリゴンの頂点を、所定の間隔で並んだ格子点上に一致させて第1のモデルを生成する第1の工程と、第1のモデルに対して、1つのエッジを共有して隣接する2つのポリゴンの法線の成す角度が所定の値より大きい場合に、該エッジを抽出する第2の工程と、抽出されたエッジのうち、1端を共有する2つのエッジをペアにしてペアエッジを構成し、該ペアエッジのうち一方のエッジを共有する複数のペアエッジを組み合わせてポリゴンを再構築する第3の工程と、再構築したポリゴンの存在の可否及び該ポリゴンの法線の向きを、前記オリジナルモデルのポリゴンデータを参照して決定する第4の工程を含むことを特徴とするポリゴン処理方法。
IPC (3)：
G06T 15/00 ,  A63F 13/00 ,  G06T 17/00
FI (4)：
G06F 15/72 450 A ,  A63F 9/22 B ,  A63F 9/22 C ,  G06F 15/62 350 A
F-Term (13)：
2C001BC00 ,  2C001BC05 ,  2C001BC08 ,  2C001BC10 ,  2C001CB01 ,  5B050BA07 ,  5B050BA08 ,  5B050BA18 ,  5B050EA06 ,  5B050EA28 ,  5B080AA13 ,  5B080AA19 ,  5B080BA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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