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J-GLOBAL ID：200903084288979647

投射光学系及びそれを用いた投射型表示装置

Inventor：
須永 敏弘

About 須永 敏弘


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000065404
Publication number (International publication number)：2001255462
Application date： Mar. 09, 2000
Publication date： Sep. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】 装置の小型化を図りつつ、周辺光量比を確保し、かつ拡大率の高い斜め投射方式を用いた投射光学系及びそれを用いた投射型表示装置を得ること。【解決手段】 画像表示パネルからの光束を基準軸に対して傾斜したスクリーン面上に導光して、該スクリーン面に画像情報を形成する為の投射光学系において、該投射光学系は、曲率を有する回転非対称反射面を複数有し、該画像表示パネルからの光束が該複数の回転非対称反射面で反射をして該スクリーン面上に導光する反射光学系を有しており、該反射光学系の複数の回転非対称反射面間、又は、該反射光学系と該画像表示パネルの間に絞りを設け、該絞りが該絞り位置より該スクリーン側に配置した光学部材により負の倍率で結像をするように設定していること。
Claim (excerpt)：
画像表示パネルからの光束を基準軸に対して傾斜したスクリーン面上に導光して、該スクリーン面に画像情報を形成する為の投射光学系において、該投射光学系は、曲率を有する回転非対称反射面を複数有し、該画像表示パネルからの光束が該複数の回転非対称反射面で反射をして該スクリーン面上に導光する反射光学系を有しており、該反射光学系の複数の回転非対称反射面間、又は、該反射光学系と該画像表示パネルの間に絞りを設け、該絞りが該絞り位置より該スクリーン側に配置した光学部材により負の倍率で結像をするように設定していることを特徴とする投射光学系。
IPC (6)：
G02B 17/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/10 ,  G09F 9/00 360 ,  H04N 5/64 501 ,  H04N 5/74
FI (6)：
G02B 17/00 A ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 21/10 Z ,  G09F 9/00 360 K ,  H04N 5/64 501 D ,  H04N 5/74 A
F-Term (29)：
2H087KA06 ,  2H087KA07 ,  2H087TA01 ,  2H088EA13 ,  2H088EA14 ,  2H088EA15 ,  2H088HA13 ,  2H088HA21 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA01 ,  2H088MA20 ,  5C058EA02 ,  5C058EA12 ,  5C058EA13 ,  5G435AA01 ,  5G435AA18 ,  5G435BB17 ,  5G435DD02 ,  5G435FF03 ,  5G435FF08 ,  5G435GG03 ,  5G435GG08 ,  5G435GG23 ,  5G435LL15 ,  9A001BB04 ,  9A001BB06 ,  9A001HZ23 ,  9A001KK16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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