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J-GLOBAL ID：200903084322623075

露光装置

Inventor： 内田 直樹 ,  仲野 健一 ,  石葉 幸生
Applicant, Patent owner： 株式会社トプコン
Agent (1)： 田辺 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993227813
Publication number (International publication number)：1994204116
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jul. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ガラス基板などの被転写物体の温度を制御することにより、たとえば恒温に保ち、パターン転写の倍率誤差を補正することができる露光装置を提供する。【構成】 被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、マスク、被転写物体、マスク用保持ステージ及び被転写物体用保持ステージの少なくとも一つの温度を検知する温度検知手段と、被転写物体用保存ステージに設けられた複数のペルチェ素子とを備えていて、温度検知手段の検知温度によりペルチェ素子を温度制御する構成にしたことを特徴とする露光装置。

Claim (excerpt)：

被転写物体用保持ステージに設置された被転写物体にマスク用保持ステージに設置されたマスクのパターンを転写する露光装置において、マスク、被転写物体、マスク用保持ステージ及び被転写物体用保持ステージの少なくとも一つの温度を検知する温度検知手段と、複数の領域に分割された被転写物体用保持ステージの夫々の領域の温度を制御する温度制御手段とを設け、温度検知手段と温度制御手段を用いて複数の領域毎に各々制御するように構成したことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開昭58-159329
  
• 特開平3-003222
  
• 半導体用ステージ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-014681   Applicant：松下電子工業株式会社
• 特開昭63-260023
  
• 特開昭58-159329
  
• 特開平3-003222
  
• 特開昭63-260023