ビーム成形方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：溝上満好 , 溝上哲也 , 岩原義則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002359252
Publication number (International publication number)：2004188457
Application date： Dec. 11, 2002
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

【課題】ビームの均質化と高い自由度を両立させること。【解決手段】発射されたビームB1 を入射されて所定位置まで伝送するシングルファイバーFBと、このシングルファイバーFBの出側FB1 に対向して入側FB1 が配置され、前記シングルファイバーFSを伝送されてきたビームB2 を入射されて所定位置まで伝送するバンドルファイバーFBを備える。ビームB1 をシングルファイバーFSに照射して伝送した後、シングルファイバーFSから更にバンドルファイバーFBに入射させて伝送し、バンドルファイバーFBから出射する。【効果】レーザビームを使用して基板表面の薄膜を除去する際のビーム形成において、バンドルファイバーによるビームの均質化と、シングルファイバーによる高い自由度の両立を可能とすることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

発射されたビームから所定の形状・大きさのビームを成形するに際し、前記ビームをシングルファイバーに照射して伝送した後、シングルファイバーから更にバンドルファイバーに入射させて伝送し、バンドルファイバーから出射することを特徴とするビーム成形方法。

IPC (3)：

B23K26/06 , B23K26/08 , G02B6/26

FI (3)：

B23K26/06 E , B23K26/08 K , G02B6/26

F-Term (10)：

2H037AA04 , 2H037BA32 , 2H037BA35 , 4E068CA05 , 4E068CA07 , 4E068CB05 , 4E068CB08 , 4E068CD05 , 4E068CD08 , 4E068CE08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-072310
特開昭63-115689
特開昭59-042502

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