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J-GLOBAL ID：200903084374158737

ダイヤモンド膜の製造方法

Inventor： 小畑 龍夫 ,  ジョセフ・ガゼ ,  小柳 直樹
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 菊地 精一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995091562
Publication number (International publication number)：1996259389
Application date： Mar. 24, 1995
Publication date： Oct. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】 膜状のダイヤモンドの析出を効率よく行い、かつ基材の特定の部位に任意の厚みとすることが可能なダイヤモンド膜を製造すること。【構成】 有機化合物と水素を含んだ原料ガスを細孔から噴出させ、このガスを熱フィラメントに接触させた後に基材に当接させ、同時に基材に赤外線レーザーを照射させることによりダイヤモンド膜を製造する。

Claim (excerpt)：

有機化合物と水素を含んだ原料ガスを細孔から噴出させ、該ガスをフィラメントに接触させた後に基材に当接させ、同時に基材に赤外線レーザーを照射させることにより基材上にダイヤモンドを折出させることを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。

IPC (3)：

C30B 29/04 ,  B01J 19/12 ,  C23C 16/26

FI (3)：

C30B 29/04 G ,  B01J 19/12 G ,  C23C 16/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-039379
  
• Siエピタキシャル膜の選択成長法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-216945   Applicant：日本電信電話株式会社
• 気相法ダイヤモンドの合成法及び合成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-208021   Applicant：昭和電工株式会社