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J-GLOBAL ID：200903084419282710

ワークとマスクの整合機構および整合方法

Inventor： 岡 村 武 彦 ,  神 田 幸 博
Applicant, Patent owner： 株式会社オーク製作所
Agent (1)： 磯野 道造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998265033
Publication number (International publication number)：2000099158
Application date： Sep. 18, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】ワークマークとマスクマークが同時に撮像手段により認識できない場合でも適切に対応でき、また、ワークマークを大径に形成しなくても対応できるワークとマスクの整合機構および整合方法を提供することを課題とする。【解決手段】マスクマークMmおよびワークマークWmを撮像する撮像手段2,2と、この撮像手段で撮像した前記両マークの画像の位置を認識して演算し記憶し制御する制御機構7と、この制御機構からの制御信号により前記両マークの位置ずれを整合する移動手段10(11)とを備える整合機構であって、前記マスクマークが前記撮像手段で撮像して認識できなかった場合に、前回作業で認識して前記制御機構に記憶しているマスクマークの位置を疑似的な基準として、前記両マークの位置ずれ量を算出して両マークの整合作業を行うワークとマスクの整合機構として構成した。

Claim (excerpt)：

パターンを有するマスクの整合用のマスクマーク、および、ワークのワークマークを撮像する撮像手段と、この撮像手段で撮像した前記両マークの位置を認識して演算し記憶し制御する制御機構と、この制御機構からの制御信号によりワークまたはマスクを移動し前記両マークの位置ずれを整合する移動手段とを備え、前記両マークの内、一方のマークの内側に他方のマークを整合する整合機構であって、前記撮像手段で撮像して前記他方のマークが認識できなかった場合に、前回作業で認識して前記制御機構に記憶している前記他方のマークの位置を疑似的な基準として、前記両マークの位置ずれ量を演算して両マークの整合作業を行うことを特徴とするワークとマスクの整合機構。

IPC (7)：

G05D 3/12 ,  G01B 11/00 ,  G01B 21/00 ,  G03F 9/00 ,  G05B 19/19 ,  H01L 21/027 ,  H04N 7/18

FI (7)：

G05D 3/12 L ,  G01B 11/00 H ,  G01B 21/00 H ,  G03F 9/00 Z ,  G05B 19/19 H ,  H04N 7/18 B ,  H01L 21/30 502 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-046466
  
• フォトソルダーレジスト露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-352441   Applicant：株式会社日立テレコムテクノロジー
• 特開平1-302259