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J-GLOBAL ID：200903084458275135

スペクトル干渉法及びスペクトル干渉装置

Inventor：
ポドリーヌ、エイドリアン

About ポドリーヌ、エイドリアン


Applicant, Patent owner：
ユニヴァーシティ・オブ・ケント

About ユニヴァーシティ・オブ・ケント


Agent (5)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006534818
Publication number (International publication number)：2007508558
Application date： Oct. 14, 2004
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：
反射率対光路差の明確なプロファイル(ミラー項の無いAスキャン)を供給し、正の光路差と負の光路差との間に差を付けるか、又は光路差の選択された間隔で出力を与えるためのスペクトル干渉装置及びスペクトル干渉法が提供される。その装置は、光源からのビームを目標物体(55)に送出し、物体ビームを生成する物体光学系と、参照ビームを生成する参照光学系とを備える。物体ビーム(41’)及び参照ビーム(42’)との間に間隙(g)を生成するための変位手段(57)が設けられる。回折格子及びプリズムのような光スペクトル分散手段(7)が、2つの相対的に変位したビームを受光し、それらのスペクトル成分をCCDのような読取り素子上に分散させる。変位手段及び光スペクトル分散手段の組み合わせは、物体ビーム及び参照ビームの波列間に固有の光学的遅延を生成し、この固有の光学的遅延を干渉計内の光路差とともに用いて、干渉計内の光路差のためのチャネルドスペクトルを読取り素子上に生成することができる。
Claim (excerpt)：
光源によって励起されるようになっている干渉計を備えるスペクトル干渉装置であって、該干渉計は、 前記光源からのビームを目標物体に送出して物体ビームを生成するように構成される物体光学系と、 参照ビームを生成するように構成される参照光学系と、 前記物体ビーム及び前記参照ビームのうちの少なくとも一方を変位させて、相対的に変位した物体ビーム及び相対的に変位した参照ビームを生成するように構成される変位手段であって、前記干渉計内で生成される該相対的に変位した物体ビームと該相対的に変位した参照ビームとの間に光路差を生じさせる変位手段と、 前記2つの相対的に変位したビームを受光するとともに、それらのスペクトル成分を読取り素子上に分散させるように構成される光スペクトル分散手段と を備え、 使用時に、前記変位手段及び前記光スペクトル分散手段の組み合わせは、2つの前記相対的に変位した物体ビーム及び前記相対的に変位した参照ビームの波列間に固有の光学的遅延を生成するように構成され、該固有の光学的遅延を、前記干渉計内の前記光路差とともに用いて、該干渉計内の該光路差のためのチャネルドスペクトルを前記読取り素子上に生成することができ、 前記変位手段は、前記物体ビーム及び前記参照ビームのうちの少なくとも一方の反射、偏向又は屈折のうちの1つ、又はそれらの組み合わせを用いて、該物体ビーム及び該参照ビームを相対的に変位させて、前記相対的に変位した物体ビーム及び前記相対的に変位した参照ビームを生成するようになっている、スペクトル干渉装置。
IPC (3)：
G01N 21/17 ,  G01B 9/02 ,  A61B 3/12
FI (3)：
G01N21/17 625 ,  G01B9/02 ,  A61B3/12 E
F-Term (31)：
2F064AA09 ,  2F064EE02 ,  2F064FF01 ,  2F064FF03 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG22 ,  2F064GG33 ,  2F064GG44 ,  2F064GG49 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ15 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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