投影露光装置及びデバイスの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高梨幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995090302
Publication number (International publication number)：1996008178
Application date： Mar. 23, 1995
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していること。

Claim (excerpt)：

第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

投影露光方法および投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-326507 Applicant：株式会社日立製作所

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