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J-GLOBAL ID：200903084556789643

投影露光装置及びデバイスの製造方法

Inventor： 吽野 靖行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995090302
Publication number (International publication number)：1996008178
Application date： Mar. 23, 1995
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していること。

Claim (excerpt)：

第1物体のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、露光により前記投影光学系に生じる、前記投影光学系の光学特性の非回転対称性を、実質的に補正する補正手段とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 E

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

• 投影露光方法および投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-326507   Applicant：株式会社日立製作所
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-296425   Applicant：株式会社ニコン
• 特開昭64-041215
  
• 被照明部材の温度制御方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-023262   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平4-192317
  
• 特開昭58-159329
  
• 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-179410   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭59-155842
  
• 特開平2-185016
  

Cited by examiner (1)

• 投影露光方法および投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-326507   Applicant：株式会社日立製作所