投影露光装置、投影露光方法及びデバイスの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋詔男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000103572
Publication number (International publication number)：2001291652
Application date： Apr. 05, 2000
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】複数の被露光基板上に複数のパターンを投影露光する時間の短縮化を可能にし、パターンの重ね精度やつなぎ合わせ精度を向上することを可能にする。【解決手段】複数の原版11、12を一度に搭載可能な原版ステージ14と、投影レンズ15などからなる投影光学系とを具備し、原版ステージ14上に搭載された複数の原版11、12に対して各々位置検出(アライメント)を行うことを可能にし、原版ステージ14を移動させ、原版ステージ14上に搭載された複数の原版11、12のうち任意の一原版を、投影光学系の直上に配置させることを可能にした投影露光装置10を用いて投影露光を行う。

Claim (excerpt)：

所定のパターンが形成された原版を搭載可能な原版ステージと、該原版ステージ上に搭載された原版に形成されたパターンを、表面に所定の感光材が塗布された被露光基板上に投影露光するための投影光学系とを具備する投影露光装置であって、前記原版ステージが複数の原版を一度に搭載可能なものであるとともに、前記原版ステージ上に搭載された複数の原版に対して各々位置検出を行うことを可能にし、前記原版ステージを移動させ、前記原版ステージ上に搭載された複数の原版のうち任意の一原版を、前記投影光学系の直上に配置させることを可能にしたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 514 B , H01L 21/30 515 F

F-Term (7)：

5F046BA03 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046CC04 , 5F046CC09 , 5F046CC14 , 5F046DA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-140840 Applicant：株式会社ニコン
露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-142769 Applicant：株式会社ニコン

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