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J-GLOBAL ID：200903084732851385

酸化物分散メッキ被膜による浸炭防止方法及び前記酸化物分散メッキ被膜

Inventor：
宮坂 四志男

About 宮坂 四志男

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加賀谷 忠治

About 加賀谷 忠治

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久保田 普堪

About 久保田 普堪


Applicant, Patent owner：
株式会社不二機販

About 株式会社不二機販


Agent (1)： 小倉 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000182168
Publication number (International publication number)：2002004029
Application date： Jun. 16, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】 イオン浸炭法、真空浸炭法等の浸炭が入りやすい浸炭法においても好適に浸炭防止を行うことができる浸炭防止方法を得る。【解決手段】 被処理成品Wの表面の浸炭を防止する部分に、錫(Sn)又は錫合金の粉体と、電融安定ジルコニア(ZrO2)等から成る酸化物の粉体とを混合し、又はそれぞれ別々に噴射する。酸化物の粉体17及び錫又は錫合金の粉体16が被処理成品Wの表面に衝突すると、被処理成品Wの表面に酸化物の分散された錫又は錫合金の被膜14が形成され、この被膜14により被覆された部分の浸炭が防止される。
Claim (excerpt)：
被処理成品の表面の浸炭を防止する部分に、錫又は錫合金の粉体と酸化物の粉体とから成る噴射粉体を80m/sec以上の噴射速度で噴射して、酸化物の分散された錫又は錫合金の被膜を形成した後、前記被処理成品を浸炭処理することを特徴とする酸化物分散メッキ被膜による浸炭防止方法。
IPC (4)：
C23C 8/04 ,  C23C 8/38 ,  C23C 24/04 ,  C23C 26/00
FI (4)：
C23C 8/04 ,  C23C 8/38 ,  C23C 24/04 ,  C23C 26/00 A
F-Term (10)：
4K028AA01 ,  4K028AB01 ,  4K028BA03 ,  4K028BA12 ,  4K044AA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044CA23
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 浸炭処理における浸炭防止方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-112575   Applicant：株式会社不二機販
  • 特開平1-301849
  • 特開昭58-093866
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