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J-GLOBAL ID：200903084772253120

レジスト組成物

Inventor：
畠山 潤

About 畠山 潤

, 
大澤 洋一

About 大澤 洋一

, 
渡辺 武

About 渡辺 武


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (1)： 奥山 尚一 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000328131
Publication number (International publication number)：2001194776
Application date： Oct. 27, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 レジスト組成物の塩基性化合物成分として窒素含有化合物を用いると、酸解離定数pKaが2〜6の範囲で、T-トップ問題を緩和できるが、高反応性の酸不安定基を用いた場合の反応の制御、すなわち酸拡散の制御ができない問題がある。【解決手段】 一般式(I)〜(III)及び(1)〜(4)で示される塩基性化合物から選ばれる1種又は2種以上を用いる。【化1】
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で示される塩基性化合物から選ばれる1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(上式中、nは1、2又は3である。側鎖Xは同一でも異なっていても良く、それぞれ独立に-R1-O-R2または-R1-C(=O)-O-R61を示す。R1は同一または異種の炭素数1〜5のアルキレン基を示す。R2は同一または異種の、カルボニル基もしくはエステル基を含む直鎖状、分岐状または環状の炭素数1〜20のアルキル基を示す。R61はカルボニル基、エステル基、エーテル基、ヒドロキシル基、ラクトン環を含んでもよい同一又は異種の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。同一側鎖中のR1とR2、R1とR61はそれぞれ結合して環を形成してもよい。側鎖Yは同一または異種の、水素原子もしくは直鎖状、分岐状または環状の炭素数1〜20のアルキル基を示し、エーテル基もしくはヒドロキシル基を含んでもよい。)
IPC (10)：
G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/17 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C07C219/06 ,  C07C229/12 ,  C07C229/16
FI (10)：
G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/17 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 601 ,  C07C219/06 ,  C07C229/12 ,  C07C229/16 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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