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J-GLOBAL ID:200903038933558064
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999080950
Publication number (International publication number):2000275836
Application date: Mar. 25, 1999
Publication date: Oct. 06, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高解像力と実用的な感度を有し、酸性基板、酸性の反射防止膜を使用する場合にも、充分な残膜率を有し、形状の良好なパターン形成可能なポジ型フォトレジストを提供する。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂、放射線の作用により酸を生成する感放射線性化合物及び窒素含有化合物を含有する組成物であって、該窒素含有化合物が下記(1)〜(3)を満足する化合物であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。(1)分子中に酸素原子を含有する環状構造を有さない、(2)窒素原子に直接結合した水素原子を有さない、(3)少なくとも炭素原子、酸素原子及び水素原子を含有し、かつ、それらの原子の数が下記式(I)および(II)の関係を満足する【数1】1<([N]+[O])/[N]≦3 (I)0<[C]/([N]+[O])<3 (II)(但し、上記式中[N]は1分子中の窒素原子の数を表し、[O]は1分子中の酸素原子の数を表し、[C]は1分子中の炭素原子の数を表す。)
Claim (excerpt):
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂、放射線の作用により酸を生成する感放射線性化合物及び窒素含有化合物を含有する組成物であって、該窒素含有化合物が下記(1)〜(3)を満足する化合物であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。(1)分子中に酸素原子を含有する環状構造を有さない、(2)窒素原子に直接結合した水素原子を有さない、(3)少なくとも炭素原子、酸素原子及び水素原子を含有し、かつ、それらの原子の数が下記式(I)および(II)の関係を満足する【数1】1<([N]+[O])/[N]≦3 (I)0<[C]/([N]+[O])<3.0 (II)(但し、上記式中[N]は1分子中の窒素原子の数を表し、[O]は1分子中の酸素原子の数を表し、[C]は1分子中の炭素原子の数を表す。)
IPC (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
F-Term (10):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025CB52
, 2H025CC20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-110395
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-318802
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-059808
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-233670
Applicant:住友化学工業株式会社
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