Pat
J-GLOBAL ID：200903084805300692
光学的異方性測定装置及びそれを用いた光学的異方性測定方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
近島 一夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997148283
Publication number (International publication number)：1998068673
Application date： Jun. 05, 1997
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】光学的異方性を測定する方法において、測定領域の微小化を図る。【解決手段】He-Neレーザ装置10から被検体22に対して測定用の光束Aを照射し、全反射光を検知することによって被検体22の光学的異方性を測定する装置において、光束Aの一部が臨界角よりも小さな角度で被検体22に照射されて該被検体22を透過するように構成されているため、被検体界面での光束照射領域中の全反射が起こる領域は円形状に近づくこととなり、それに伴って測定領域が微小化される。したがって、例えば液晶デバイス中の微小な配向欠陥の検知等が可能となる。また、透過光を検知することによって、被検体22の界面以外の光学的異方性を同時に測定することができる。
Claim (excerpt)：
光学的異方性が測定される被検体と、該被検体を保持する透明な被検体保持手段と、前記被検体に対して光束を照射する光源と、該光源と前記被検体との間に配置されて、前記光源からの光束を収束させる入射側光学系と、前記被検体にて全反射された光束を検知する第1の光検知器と、を備え、かつ、光束の一部が臨界角よりも小さな角度で前記被検体に入射して該被検体を透過するように、前記光源及び前記入射側光学系を配置した、ことを特徴とする光学的異方性測定装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G01M 11/00 T
, G01N 21/21 Z
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
Return to Previous Page
