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J-GLOBAL ID：200903085035399063

光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット

Inventor： 福井 総一 ,  小田 淳一
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995307466
Publication number (International publication number)：1997143703
Application date： Nov. 27, 1995
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光ビームを用いて情報の記録および消去を行う光ディスクなどの光メディアに用いられる保護膜を形成するための硫化亜鉛-二酸化ケイ素焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 純度:99.999重量%以上の高純度二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが純度:99.999重量%以上の高純度硫化亜鉛からなり、相対密度が90%以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、さらに、酸化アルミニウムを10〜1000ppm含有する。

Claim (excerpt)：

純度:99.999重量%以上の高純度二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが純度:99.999重量%以上の高純度硫化亜鉛からなり、相対密度が90%以上有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、さらに、酸化アルミニウムを10〜1000ppm含有することを特徴とする光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  G11B 7/26

FI (2)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 光記録保護膜用スパッタリング・ターゲットおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-241148   Applicant：同和鉱業株式会社
• 特開平4-136164
  
• 特開昭63-143254
  
• 特開平4-136164
  
• 特開昭63-143254