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J-GLOBAL ID:200903085088632819
ヒ素含有鉱酸の処理方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
木戸 一彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003200220
Publication number (International publication number):2005040656
Application date: Jul. 23, 2003
Publication date: Feb. 17, 2005
Summary:
【課題】ヒ素濃度が1000ppm以下の希薄ヒ素を含有した鉱酸からヒ素を効率よく除去することができるヒ素含有鉱酸の処理方法を提供する。【解決手段】希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去するヒ素含有鉱酸の処理方法であって、固形硫化ヒ素及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸に硫化ナトリウム水溶液及び/又は水硫化ナトリウム水溶液を添加してヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
希薄ヒ素を含有する鉱酸からヒ素を除去するヒ素含有鉱酸の処理方法であって、固形硫化ヒ素及び/又は硫黄の存在下で前記ヒ素含有鉱酸に硫化ナトリウム水溶液及び/又は水硫化ナトリウム水溶液を添加してヒ素を固形硫化ヒ素に変換し、次いで固液分離手段により前記固形硫化ヒ素を除去することを特徴とするヒ素含有鉱酸の処理方法。
IPC (5):
C02F1/58
, B01D19/00
, B01D21/00
, C02F1/20
, C02F1/72
FI (7):
C02F1/58 H
, B01D19/00 D
, B01D19/00 F
, B01D19/00 101
, B01D21/00 B
, C02F1/20 C
, C02F1/72 C
F-Term (25):
4D011AA12
, 4D011AA15
, 4D011AA16
, 4D011AD03
, 4D037AA13
, 4D037AB13
, 4D037BA23
, 4D037BB05
, 4D037BB06
, 4D037BB07
, 4D038AA08
, 4D038AB70
, 4D038AB80
, 4D038BB03
, 4D038BB16
, 4D038BB18
, 4D050AA13
, 4D050AB41
, 4D050BB01
, 4D050BB09
, 4D050CA16
, 4D050CA20
, 4G048AA07
, 4G048AB02
, 4G048AE01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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特開昭48-089194
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特開昭57-032786
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特開昭48-096446
-
特開昭49-029298
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硫酸鉄溶液中に存在する砒素の除去及び固定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-125211
Applicant:同和鉱業株式会社, 秋田製錬株式会社
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ヒ素含有鉱酸の再生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-200218
Applicant:前澤工業株式会社, ナガオ株式会社
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Cited by examiner (4)