Pat
J-GLOBAL ID：200903085158777747

パルスレーザ発生装置及びそれを利用したX線発生装置

Inventor：
▲高▼砂 一弥

About ▲高▼砂 一弥

, 
遠藤 彰

About 遠藤 彰


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (1)： 高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000222246
Publication number (International publication number)：2002043664
Application date： Jul. 24, 2000
Publication date： Feb. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】 比較的高出力で、かつ赤外領域の短パルスレーザビームを発生させることが可能なパルスレーザ発生装置を提供する。【解決手段】 第1のレーザ発振器が、光の周波数が第1の周波数のパルスレーザビームを出射する。第2のレーザ発振器が、第1のレーザ発振器から出射したパルスレーザビームに同期して、光の周波数が第2の周波数のパルスレーザビームを出射する。第1及び第2のレーザ発振器から出射したパルスレーザビームが、差周波発生器に入射する。差周波発生器は、第1の周波数と第2の周波数との差に等しい周波数のパルスレーザビームを発生する。
Claim (excerpt)：
光の周波数が第1の周波数のパルスレーザビームを出射する第1のレーザ発振器と、前記第1のレーザ発振器から出射したパルスレーザビームに同期して、光の周波数が第2の周波数のパルスレーザビームを出射する第2のレーザ発振器と、前記第1及び第2のレーザ発振器から出射したパルスレーザビームが入射し、前記第1の周波数と第2の周波数との差に等しい周波数のパルスレーザビームを発生する差周波発生器とを有するパルスレーザ発生装置。
IPC (4)：
H01S 3/098 ,  G02F 1/33 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/10
FI (4)：
H01S 3/098 ,  G02F 1/33 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/10 C
F-Term (18)：
2K002AB06 ,  2K002AB07 ,  2K002AB12 ,  2K002BA02 ,  2K002BA12 ,  2K002CA02 ,  2K002HA10 ,  2K002HA31 ,  5F072AB20 ,  5F072HH02 ,  5F072HH03 ,  5F072JJ04 ,  5F072KK11 ,  5F072KK15 ,  5F072QQ04 ,  5F072RR01 ,  5F072RR07 ,  5F072SS08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM