Pat

J-GLOBAL ID：200903085180680595

基板処理装置

Inventor： 杉本 憲司
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997226546
Publication number (International publication number)：1999067864
Application date： Aug. 22, 1997
Publication date： Mar. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 基板の搬送経路を工夫することにより、装置コストを抑えつつも加熱処理時間を一定に保持して加熱処理を適切に施すことができる。【解決手段】 加熱ユニット7及び冷却ユニット9を、各々の搬送口7a,9aが搬送路11に臨むように配備し、加熱ユニット7と冷却ユニット9の間でのみ基板を搬送する専用搬送機構13を備えるとともに、加熱ユニット7および冷却ユニット9と、露光処理を施す露光ユニット21との間にて基板を搬送する搬送機構1を備え、全体の処理間隔と加熱処理時間との関係に基づいて、加熱ユニット7を経て冷却ユニット9との間で搬送機構1が基板を搬送したり、加熱ユニット7との間で直接的に基板を搬送したり、冷却ユニット9を経て加熱ユニット7との間で基板を搬送して加熱ユニット7における処理時間を一定化する。

Claim (excerpt)：

基板を加熱する加熱ユニットおよび基板を冷却する冷却ユニットを、各々の搬送口が搬送路に臨むように配備し、前記加熱ユニットと前記冷却ユニットの間でのみ基板を搬送する専用搬送機構を備えるとともに、前記加熱ユニットおよび前記冷却ユニットと、基板に塗布処理や露光処理などの処理を施す処理ユニットとの間にて、前記搬送口を経て直接的に基板を搬送する搬送機構を前記搬送路に移動自在に備え、全体の処理間隔と加熱処理時間との関係に基づいて、前記加熱ユニットを経て前記冷却ユニットとの間で前記搬送機構が基板を搬送したり、前記加熱ユニットとの間で直接的に基板を搬送したり、前記冷却ユニットを経て前記加熱ユニットとの間で基板を搬送して前記加熱ユニットにおける処理時間を一定にするようにしたことを特徴とする基板処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-209737
  
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-135796   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-038905   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社