基板の処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：五十嵐孝雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996038905
Publication number (International publication number)：1997213766
Application date： Jan. 31, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】同一のカセット内に収納されている複数の基板に関して2回以上の処理ループを実行する場合に、処理ループ間の待機時間を短縮する。【解決手段】対象カセットから最初に取出された基板に関して1回目の処理フローによる処理が終了した際に、1回目と2回目の処理フローの関係に基づいて、その基板に対して2回目の処理フローによる処理を継続して実行できるか否かを判断する。そして、その基板に対して2回目の処理フローによる処理を継続して実行できると判断された場合には、その基板を対象カセットに戻すことなく2回目の処理フローの処理を開始する。

Claim (excerpt)：

複数の処理ユニットを有する基板処理装置によって基板を処理する方法であって、(a)対象カセット内に収納された複数の基板を前記複数の処理ユニットで処理する手順を表わす第1の処理フローと第2の処理フローを指定する工程と、(b)前記対象カセットから前記複数の基板を順次取出して、前記第1の処理フローに従って処理を進める工程と、(c)前記対象カセットから最初に取出された第1の基板に関して前記第1の処理フローによる処理が終了した際に、前記第1と第2の処理フローの関係に基づいて、前記第1の基板に対して前記第2の処理フローによる処理を継続して実行できるか否かを判断する工程と、(d)前記第1の基板に対して前記第2の処理フローによる処理を継続して実行できると判断された場合には、前記第1の基板を前記対象カセットに戻すことなく、前記複数の処理ユニットによる前記第2の処理フローの処理を開始する工程と、を備える基板の処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/68 , G02F 1/13 101

FI (2)：

H01L 21/68 A , G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345150 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
回転塗布処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-213665 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071036 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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Cited by examiner (5)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345150 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
回転塗布処理装置
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基板処理装置
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