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J-GLOBAL ID：200903085324292021

パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート

Inventor： 米 田 郁 男 ,  太 田 拓 見 ,  小 柴 健
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (5)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007115278
Publication number (International publication number)：2008270686
Application date： Apr. 25, 2007
Publication date： Nov. 06, 2008
Summary：

【課題】テンプレートへの有機材料充填時間を最適化し、有機材料の充填不良なく、かつスループットを高くする。【解決手段】一方の面に所定の凹凸パターンが形成されたテンプレート6に前記凹凸パターンの情報を記述し、テンプレート6がウェーハ基板7の表面に塗布された光硬化性有機材料に接触し、光硬化性材料の凹凸パターンへの充填に要する時間を、センサ2が読み取った前記凹凸パターンの情報に基づいて制御部5が算出し、算出した時間後に光源1dが光を照射するように制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

表面に有機材料が塗布されたウェーハ基板を保持するウェーハ基板支持体と、 一方の面に所定の凹凸パターンが形成され、この凹凸パターンの情報が記述された光透過性のテンプレートを保持するテンプレート保持部と、 前記凹凸パターンの情報を読み取って出力するセンサと、 駆動制御信号に基づき前記テンプレート保持部の駆動を行い、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートを前記ウェーハ基板表面に塗布された前記有機材料に接触させる駆動部と、 光照射制御信号に基づき、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートに、前記テンプレートの他方の面側から光を照射する光源と、 前記駆動制御信号を出力し、前記センサから出力される前記凹凸パターンの情報に基づき、前記テンプレートが前記有機材料に接触してから所定の時間経過後に前記光源が光を照射するように前記光照射制御信号を出力する制御部と、 を備えることを特徴とするパターン形成装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

F-Term (15)：

4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• デバイス製作のためのリソグラフィ・プロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-224839   Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド