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J-GLOBAL ID:200903085329748082

紫外線吸収性加工製品およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 原 謙三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995150707
Publication number (International publication number):1997003135
Application date: Jun. 16, 1995
Publication date: Jan. 07, 1997
Summary:
【要約】【構成】 紫外線吸収性加工製品は、基材1表面に、接着剤層2、化粧層3および共重合体層4を積層してなる。上記の共重合体層4は、例えば、紫外線吸収性単量体としての2-〔 2'-ヒドロキシ-5'-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル〕-2H-ベンゾトリアゾールと、不飽和単量体としてのシクロヘキシルメタクリレートとを含む単量体組成物を共重合してなる。【効果】 紫外線吸収能を有し、長期耐候性に優れると共に、光沢や耐水性、耐溶剤性等に優れた共重合体層を有する紫外線吸収性加工製品を提供することができる。
Claim (excerpt):
一般式(1)【化1】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜8の炭化水素基を表し、R2 は炭素数1〜6の直鎖状または枝分れ鎖状のアルキレン基を表し、R3 は水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す)で表される紫外線吸収性単量体と、一般式(2)【化2】(式中、R10は水素原子または炭素数1〜2の炭化水素基を表し、Zは置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す)で表される不飽和単量体とを含む単量体組成物を共重合してなる共重合体層を有することを特徴とする紫外線吸収性加工製品。
IPC (3):
C08F220/36 MMQ ,  C08F220/12 MMC ,  C08J 7/04 CEY
FI (3):
C08F220/36 MMQ ,  C08F220/12 MMC ,  C08J 7/04 CEY
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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