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J-GLOBAL ID：200903085420226811

しわ改善剤

Inventor： 藤村 努 ,  小河 亜由美 ,  塚原 和枝 ,  武馬 吉則 ,  永井 実 ,  小野 敏也
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996274628
Publication number (International publication number)：1997202710
Application date： Oct. 17, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】 式(1)又は(2)で表されるグアニジン誘導体又はその酸付加塩を含有するしわ改善剤及び老化防止化粧料。【化1】(A及びBはC2〜C8のアルキレン基、Dは結合手、-CO-又はC1〜C6のアルキレン基、EはH、低級アルキル基等、mは1〜6、nは0〜6、R1 はH、低級アルキル基等、kは1〜10、GはH、-OH等)【効果】 しわの発生を抑制し、また、しわを消滅させる効果を有する。

Claim (excerpt)：

次の一般式(1)又は(2);【化1】[式(1)中、A及びBは同一又は異なっていてもよい炭素数2〜8のアルキレン基を示し、Dは結合手、-CO-又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を示し、Eは水素原子、低級アルキル基、アラルキル基又は置換基を有していていもよいアリール基を示し、mは1〜6の数を示し、nは0〜6の数を示し、R1 は水素原子、低級アルキル基又は-(AO)m-(BO)n-D-Eを示す。ただし、R1 がメチル基の場合、-(AO)m-(BO)n-D-Eはヒドロキシエチル基ではない。式(2)中、kは1〜10の数を示し、Gは水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基を示し、R1 は前記と同じ意味を示す]で表されるグアニジン誘導体又はその酸付加塩を含有するしわ改善剤。

IPC (6)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C07C279/08 ,  C07C279/14 ,  C07C309/15 ,  C07F 9/09

FI (7)：

A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/48 ,  C07C279/08 ,  C07C279/14 ,  C07C309/15 ,  C07F 9/09 U

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 皮膚化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-228023   Applicant：花王株式会社