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J-GLOBAL ID：200903085484127094

紫外線吸収剤

Inventor： 西村 桂一 ,  山本 信 ,  宮瀬 敏男
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994022009
Publication number (International publication number)：1996119842
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 下記式(1)で表される1,2-ジヒドロキシ-4-(2-ヒドロキシエチル)ベンゼン誘導体からなる紫外線吸収剤。この紫外線吸収剤を配合した化粧料。〔式中、R1、R2、R4はそれぞれ水素原子、下記式(2)に表される置換基を有するシンナモイル基又は低鎖長の直鎖アルキル基を有するアシル基を表し、R3は五炭糖又は六炭糖類の残基を表し、R5、R6はそれぞれ水素原子又は低鎖長のアルキル基を表し、R7は水素原子、水酸基又は低鎖長直鎖アルキルオキシ基を表す〕【効果】 上記の紫外線吸収剤は安全性が高い上に紫外線吸収効果に優れる。これを配合した化粧料は安全に紫外線より肌を保護できる。

Claim (excerpt)：

一般式化1に示される1、2ージヒドロキシー4ー(2ーヒドロキシエチル)ベンゼン誘導体及び/またはその塩からなる紫外線吸収剤。【化1】【化2】【化3】【化4】【化5】【化6】

IPC (5)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 31/70 ADA ,  C09K 3/00 104 ,  C07H 15/18