Pat
J-GLOBAL ID:200903085553779031
薄型光学積層体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000168646
Publication number (International publication number):2001350021
Application date: Jun. 06, 2000
Publication date: Dec. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】 偏光フィルム層を有し、薄肉で、しかも温度や湿度の変化によるカールなどの変形が小さい光学積層体を提供し、また従来とは異なる方法でこれを製造する方法を提供する。【解決手段】 ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする厚さ10μm 以下の偏光フィルムと、光学機能性のフィルム又はシートとが積層されてなる薄型光学積層体が提供される。また、基材樹脂フィルムにポリビニルアルコール系樹脂を塗布する工程、得られる積層フィルムを、ポリビニルアルコール系樹脂層の厚さが10μm 以下となるように一軸延伸する工程、厚さが10μm 以下となったポリビニルアルコール系樹脂層1の側に光学機能性のフィルム又はシート3を貼り合わせる工程、及び光学機能性のフィルム又はシートが貼り合された後に基材樹脂フィルム2を剥離除去する工程を経て、上記光学積層体を製造する方法も提供される。
Claim (excerpt):
ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする厚さ10μm 以下の偏光フィルムと、光学機能性のフィルム又はシートとが積層されていることを特徴とする薄型光学積層体。
IPC (4):
G02B 5/30
, B32B 7/02 103
, B32B 27/30 102
, G02F 1/1335
FI (4):
G02B 5/30
, B32B 7/02 103
, B32B 27/30 102
, G02F 1/1335
F-Term (57):
2H049BA02
, 2H049BA06
, 2H049BA07
, 2H049BA25
, 2H049BA26
, 2H049BB03
, 2H049BB43
, 2H049BB44
, 2H049BB46
, 2H049BB54
, 2H049BB63
, 2H049BC03
, 2H049BC22
, 2H091FA08X
, 2H091FA08Z
, 2H091FA11X
, 2H091FA11Z
, 2H091FA14Z
, 2H091FA15Z
, 2H091FA31X
, 2H091FA31Z
, 2H091FB02
, 2H091FC01
, 2H091FC25
, 2H091FC27
, 2H091FD06
, 2H091GA01
, 2H091GA17
, 2H091LA02
, 2H091LA04
, 2H091LA06
, 2H091LA07
, 2H091LA11
, 4F100AB10
, 4F100AG00B
, 4F100AK01B
, 4F100AK21A
, 4F100AK41
, 4F100AK42
, 4F100AR00A
, 4F100AR00B
, 4F100AS00B
, 4F100BA02
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100EC182
, 4F100EH462
, 4F100EJ372
, 4F100EJ913
, 4F100GB41
, 4F100JL04
, 4F100JN00B
, 4F100JN06B
, 4F100JN08B
, 4F100JN10
, 4F100JN10A
, 4F100YY00A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
液晶表示素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-111063
Applicant:日本化薬株式会社
-
偏光板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-153668
Applicant:株式会社サンリッツ
-
偏光フィルムの製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-115323
Applicant:日本合成化学工業株式会社
-
偏光フィルム及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-121709
Applicant:日本合成化学工業株式会社
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