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J-GLOBAL ID：200903085732326236

湿式分散処理装置

Inventor： 鳥淵 浩伸 ,  安道 信行 ,  池田 勇人 ,  串野 光雄 ,  森 悦邦
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 八田 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995147939
Publication number (International publication number)：1997000907
Application date： Jun. 14, 1995
Publication date： Jan. 07, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 顔料等の固体微粒子を分散媒液に安定に分散させるために、分散処理と合せて固体微粒子の表面改質を行なう場合に有用な湿式分散処理装置を提供する。【構成】 被処理流体を内部に収容するためのベッセル1と、このベッセル内部において回転する攪拌子3と、ベッセル内部に収容された複数の粒状分散媒体4とを少なくとも備えてなる湿式分散処理装置であって、ベッセル内の被処理流体を加熱するための加熱装置11を備えてなることを特徴とする湿式分散処理装置。【効果】 解砕され個々に分離した一次粒子となった固体微粒子が、分散媒液中に均一に分散されていくと同時に、当該固体微粒子表面の官能基と反応性ポリマーの反応基との反応が効率よくなされ、反応性ポリマーが固体微粒子表面にグラフト化されて固体微粒子の分散媒液に対する親和性が改善され、得られる分散液における固体微粒子の分散安定性が向上する。

Claim (excerpt)：

被処理流体を内部に収容するためのベッセルと、このベッセル内部において回転する攪拌子と、ベッセル内部に収容された複数の粒状分散媒体とを少なくとも備えてなる湿式分散処理装置であって、ベッセル内の被処理流体を加熱するための加熱装置を備えてなることを特徴とする湿式分散処理装置。

IPC (3)：

B01F 15/06 ,  B01F 5/00 ,  B01F 7/00

FI (3)：

B01F 15/06 Z ,  B01F 5/00 B ,  B01F 7/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 媒体分散機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-074326   Applicant：株式会社井上製作所
• 特開昭55-061929
  
• 特開昭55-061929