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J-GLOBAL ID:200903085774270443
微細パターン形成用原版およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
米田 潤三 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994187805
Publication number (International publication number):1996029964
Application date: Jul. 18, 1994
Publication date: Feb. 02, 1996
Summary:
【要約】【目的】 線幅が微細であるとともに、膜厚も適度な微細パターンを高い精度で効率よく形成することがでる高耐久性の微細パターン形成用原版とその製造方法を提供する。【構成】 少なくとも表面が導電性の基板に凹部を所定パターンで形成し、この凹部に絶縁性物質を設けて電気絶縁性のマスキング層を形成して微細パターン形成用原版とする。
Claim (excerpt):
少なくとも表面が導電性の基板と、該基板の表面に所定パターンで形成された凹部に設けた絶縁性物質からなるマスキング層とを備えることを特徴とする微細パターン形成用原版。
IPC (3):
G03F 1/08
, B41F 17/14
, H05K 3/20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平4-234192
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微細パターン形成用の原版
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-322106
Applicant:大日本印刷株式会社
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特開昭58-073186
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