パターン製造方法およびパターン製造装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998148019
Publication number (International publication number)：1999340129
Application date： May. 28, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】リソグラフィ法におけるレジストパターン形成工程の欠点を排除する。【解決手段】溶質であるレジスト材料を溶媒に溶解させて流動体(11-1n)を製造する。この流動体をインクジェット式ヘッド(21-2n)からパターン形成面(100)に吐出させる。

Claim (excerpt)：

パターン形成面にレジストパターンを形成するためのパターン製造方法であって、溶質であるレジスト材料を溶媒に溶解させた流動体の液滴を前記パターン形成面に付着させる工程を備えていることを特徴とするパターン製造方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B41J 2/01 , G03F 7/16 501

FI (3)：

H01L 21/30 564 Z , G03F 7/16 501 , B41J 3/04 101 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

パターン画像形成装置及びその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-114425 Applicant：株式会社リコー
インクジェットプリントを使用するフォトイメージング法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-105274 Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
特開平4-173345

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