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J-GLOBAL ID:200903086026679637
微小部蛍光X線分析装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
塩野入 章夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002139667
Publication number (International publication number):2003329621
Application date: May. 15, 2002
Publication date: Nov. 19, 2003
Summary:
【要約】【課題】 微小部蛍光分析装置に一次X線フィルタを設け、特性X線の分析能を高めること。【解決手段】 X線集光用キャピラリレンズ3を用いることによりX線を試料Sの微小部分に集光させて微小部を分析する蛍光X線分析装置1を構成すると共に、このX線集光用キャピラリレンズ3とX線源2との間に一次X線フィルタ(一次X線フィルタ変換装置20)を配置することにより、X線の集光位置の近傍付近への構成要素の配置が困難な微小部蛍光X線分析装置への一次X線フィルタの設置を可能とする。
Claim (excerpt):
X線源と、X線源から発生したX線を試料に集光させるX線集光用キャピラリレンズと、試料から発生した特性X線を検出する検出器とを備える微小部蛍光X線分析装置であって、前記X線源と前記X線集光用キャピラリレンズとの間に、一次X線フィルタを備えることを特徴とする微小部蛍光X線分析装置。
F-Term (11):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001EA06
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001JA01
, 2G001KA01
, 2G001PA11
, 2G001PA14
, 2G001SA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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半導体評価装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-319983
Applicant:株式会社日立製作所
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光電子分光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-333387
Applicant:株式会社ニコン
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特開昭62-038350
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