ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993005795
Publication number (International publication number)：1994214395
Application date： Jan. 18, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、耐熱性、残膜率、密着性及びプロファイル等の諸性能を維持したまま、感度及び解像度に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び光酸発生剤を含むポジ型フォトレジスト組成物であって、上記アルカリ可溶性樹脂がp-ビニルフェノールもしくはその誘導体とスチレンとの共重合体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤および光酸発生剤を含むポジ型フォトレジスト組成物であって、上記アルカリ可溶性樹脂がp-ビニルフェノールもしくはその誘導体とスチレンとの共重合体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 , C08F212/14 MJY , C09D125/18 PFB , G03F 7/004 501 , G03F 7/031 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平3-107163
特開平4-211258
特開平3-206458

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